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磁控濺射真空鍍膜機(jī)觸摸屏ITO制程

發(fā)布時間:2022-09-13

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電阻式觸摸屏

磁控濺射卷繞式鍍膜機(jī)-電阻式觸摸屏的主要兩大原材料是上層的ITO膜和下層的ITO玻璃,它們占觸摸屏材料成本的一半以上,電阻式觸摸屏的總可見光透過率一般在80%左右。

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

電阻式觸摸屏主要材料規(guī)格要求

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

四線電阻式觸摸屏定位原理

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

電阻式觸摸屏實(shí)物圖

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

A)電阻觸摸屏ITO玻璃面的處理分為:

1.ITO玻璃區(qū)域劃分

2.ITO玻璃側(cè)ITO刻蝕

3.玻璃上印刷Spacer

4.印刷玻璃面Ag線

5.玻璃印刷絕緣膠ins-1

6.玻璃印刷絕緣膠ins-3

B)電阻觸摸屏ITOFilm面的處理

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)


C)電阻觸摸玻璃與Film貼合

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

電容式觸摸屏

投射電容式觸摸屏結(jié)構(gòu)、原理

在兩個不同導(dǎo)電基材上(或同一導(dǎo)電基材的正反兩面),分別有平行的X導(dǎo)線與Y導(dǎo)線;導(dǎo)線相互垂直但卻不在同一表面,每個X、Y相交處即形成一電容節(jié)點(diǎn)。對導(dǎo)電基材上的導(dǎo)線(驅(qū)動線driverline)供以特定振幅與頻率的交流電壓,另一組導(dǎo)線此時即形成回路以偵測電容改變量(感應(yīng)線senseline)。

操作時控制器交互提供電壓至其中一組導(dǎo)線,使每個節(jié)點(diǎn)上的電容耦合(coupling)造成驅(qū)動線和每一相交的感應(yīng)線有微小電流;當(dāng)手指接近一個或多個節(jié)點(diǎn)時,會吸走部份電流,進(jìn)而改變了節(jié)點(diǎn)上的電容值??刂破鹘换呙韪袘?yīng)在線每個節(jié)點(diǎn)電容值改變,利用3個以上電容改變的節(jié)點(diǎn)來估計觸動的實(shí)際位置。

投射電容式觸摸屏比較大的優(yōu)勢是觸動無須直接接觸、支持多點(diǎn)觸控,面板可置于透明基材下方而得到良好的保護(hù),觸動可經(jīng)由手指或特殊筆,即便是帶著手套亦可以使用投射電容式面板。投射電容觸摸面板的中心工藝是雙面ITO玻璃多層膜制程。

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)


雙面ITO玻璃制程

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磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

電容觸控面板另一種ITO制程

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

ITO圖形形狀

原則:圖形之間的相互連線避免過長,連線太長,掃描電阻大,掃描時間長;通常菱形是比較常見的圖形形狀。

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3.5 菱形ITO圖形的具體要求

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

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磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

觸控面板大尺寸化對ITO鍍膜質(zhì)量要求更高

端電阻取決于ITO面阻抗值、pattern長度及長寬比例

ITO pattern端電阻值愈小,則電容感應(yīng)訊號愈強(qiáng)&IC處理反應(yīng)時間愈短

質(zhì)量較佳的電容式觸控解決方案取決于TouchIC感測及pattern設(shè)計

現(xiàn)階段應(yīng)用于2.8”Film-Type Sensor之ITO-Film面阻抗值約300Ω/□

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)


內(nèi)嵌式多點(diǎn)觸控面板

所謂內(nèi)嵌式多點(diǎn)觸控面板(In-CellMulti-Touch Panel),是指觸控功能直接整合于面板生產(chǎn)制程中,不需校正,不必再加一層觸控玻璃,從而可維持原面板的薄度只是2.2mm,相對輕薄,且光能利用率更高。具體是在先前TFTLCD 用ITO電極的基礎(chǔ)上,再加上一層ITO作為電容觸控層,這是在TFTLCD工廠現(xiàn)有設(shè)備制程上非常容易實(shí)現(xiàn),只是由于TFT本身噪聲非常高,對電容感測控制電路有干擾,使得大面積In-CellMulti-Touch Panel難度更高。

磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)


磁控濺射卷繞式真空鍍膜機(jī)

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電阻/電容式觸摸屏供應(yīng)鏈

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